Ablagerung
Gewinnen Sie Erkenntnisse und beschleunigen Sie den Entwicklungsprozess.
Advanced Energy liefert Stromversorgungs- und Steuerungslösungen für kritische Dünnschichtabscheidungsanwendungen und Gerätegeometrien. Mit unseren Präzisions-Stromumwandlungslösungen können Sie die Herausforderungen der Waferverarbeitung meistern und so die Leistungsgenauigkeit, Präzision, Geschwindigkeit und Prozesswiederholbarkeit optimieren.
Wir bieten eine breite Palette an HF-Frequenzen, Gleichstromversorgungssystemen, maßgeschneiderten Leistungsstufen, Anpassungstechnologien und faseroptischen Temperaturüberwachungslösungen, die Ihnen eine bessere Kontrolle des Prozessplasmas ermöglichen. Darüber hinaus integrieren wir Fast DAQ™ und unsere Suite zur Datenerfassung und -zugriff, um Prozesseinblicke zu ermöglichen und den Entwicklungsprozess zu beschleunigen.
Erfahren Sie mehr über unsere Halbleiterherstellungsprozesse, um die Lösung zu finden, die Ihren Anforderungen entspricht.
Ihre Herausforderung
Von Filmen, die zum Strukturieren der Abmessungen integrierter Schaltkreise verwendet werden, über leitfähige und isolierende Filme (elektrische Strukturen) bis hin zu Metallfilmen (Verbindungen) erfordern Ihre Abscheidungsprozesse eine Kontrolle auf atomarer Ebene – nicht nur für jedes Merkmal, sondern über den gesamten Wafer hinweg.
Neben der Struktur selbst müssen die abgeschiedenen Filme von hoher Qualität sein. Sie müssen die gewünschte Kornstruktur, Gleichmäßigkeit und konforme Dicke aufweisen und hohlraumfrei sein – und das zusätzlich zu den erforderlichen mechanischen Spannungen (Druck- und Zugfestigkeit) und elektrischen Eigenschaften.
Die Komplexität nimmt stetig zu. Um die lithografischen Einschränkungen (Knoten unter 1 nm) zu überwinden, erfordern selbstausrichtende Doppel- und Vierfachstrukturierungstechniken, dass Ihr Abscheidungsprozess das Muster auf jedem Wafer erzeugt und reproduziert.
Unsere Lösung
Wenn Sie die kritischsten Abscheidungsanwendungen und Gerätegeometrien einsetzen, benötigen Sie einen zuverlässigen Marktführer.
Mithilfe der HF-Leistungsabgabe und der Hochgeschwindigkeits-Anpassungstechnologie von Advanced Energy können Sie die Leistungsgenauigkeit, Präzision, Geschwindigkeit und Prozesswiederholbarkeit anpassen und optimieren, die für alle fortschrittlichen PECVD- und PEALD-Abscheidungsprozesse erforderlich sind.
Nutzen Sie unsere Gleichstromgeneratortechnologie, um die für Ihre PVD- (Sputter-) und ECD-Abscheidungsprozesse erforderliche konfigurierbare Lichtbogenreaktion, Leistungsgenauigkeit, Geschwindigkeit und Prozesswiederholbarkeit zu optimieren.
Vorteile
● Verbesserte Plasmastabilität und Prozesswiederholbarkeit erhöhen den Ertrag
● Präzise HF- und DC-Übertragung mit vollständiger digitaler Steuerung trägt zur Optimierung der Prozesseffizienz bei
● Schnelle Reaktion auf Plasmaänderungen und Lichtbogenmanagement
● Mehrstufiges Pulsieren mit adaptiver Frequenzabstimmung verbessert die Ätzratenselektivität
● Weltweiter Support zur Gewährleistung maximaler Verfügbarkeit und Produktleistung