Ablage
Gewinnen Sie Erkenntnisse und beschleunigen Sie den Entwicklungsprozess.
Advanced Energy liefert Stromversorgungs- und Steuerungslösungen für kritische Dünnschichtabscheidungsanwendungen und Gerätegeometrien.Zur Bewältigung der Herausforderungen bei der Waferverarbeitung ermöglichen Ihnen unsere Präzisions-Stromumwandlungslösungen die Optimierung von Leistungsgenauigkeit, Präzision, Geschwindigkeit und Prozesswiederholbarkeit.
Wir bieten ein breites Spektrum an HF-Frequenzen, Gleichstromsystemen, kundenspezifischen Leistungsstufen, Anpassungstechnologien und faseroptischen Temperaturüberwachungslösungen, die Ihnen wirklich eine bessere Kontrolle des Prozessplasmas ermöglichen.Wir integrieren außerdem Fast DAQ™ und unsere Datenerfassungs- und Zugänglichkeitssuite, um Prozesseinblicke zu ermöglichen und den Entwicklungsprozess zu beschleunigen.
Erfahren Sie mehr über unsere Halbleiterfertigungsprozesse, um die Lösung zu finden, die Ihren Anforderungen entspricht.
Ihre Herausforderung
Von Filmen zur Strukturierung der Abmessungen integrierter Schaltkreise über leitende und isolierende Filme (elektrische Strukturen) bis hin zu Metallfilmen (Verbindungen) erfordern Ihre Abscheidungsprozesse eine Kontrolle auf atomarer Ebene – nicht nur für jedes Merkmal, sondern über den gesamten Wafer.
Über die Struktur selbst hinaus müssen Ihre aufgebrachten Filme von hoher Qualität sein.Sie müssen die gewünschte Kornstruktur, Gleichmäßigkeit und konforme Dicke aufweisen und frei von Hohlräumen sein – und das zusätzlich zu den erforderlichen mechanischen Spannungen (Druck und Zug) und elektrischen Eigenschaften.
Die Komplexität nimmt immer weiter zu.Um die Einschränkungen der Lithographie (Knoten unter 1X nm) zu überwinden, erfordern selbstausrichtende Doppel- und Vierfachstrukturierungstechniken, dass Ihr Abscheidungsprozess das Muster auf jedem Wafer erzeugt und reproduziert.
Unsere Lösung
Wenn Sie die kritischsten Abscheidungsanwendungen und Gerätegeometrien einsetzen, benötigen Sie einen zuverlässigen Marktführer.
Mit der HF-Leistungsbereitstellung und der Hochgeschwindigkeitsanpassungstechnologie von Advanced Energy können Sie die Leistungsgenauigkeit, Präzision, Geschwindigkeit und Prozesswiederholbarkeit anpassen und optimieren, die für alle fortschrittlichen PECVD- und PEALD-Abscheidungsprozesse erforderlich sind.
Nutzen Sie unsere Gleichstromgeneratortechnologie zur Feinabstimmung Ihrer konfigurierbaren Lichtbogenreaktion, Leistungsgenauigkeit, Geschwindigkeit und Prozesswiederholbarkeit, die für PVD- (Sputtern) und ECD-Abscheidungsprozesse erforderlich sind.
Vorteile
● Verbesserte Plasmastabilität und Prozesswiederholbarkeit erhöhen die Ausbeute
● Präzise HF- und Gleichstromübertragung mit vollständiger digitaler Steuerung trägt zur Optimierung der Prozesseffizienz bei
● Schnelle Reaktion auf Plasmaänderungen und Lichtbogenmanagement
● Mehrstufiges Pulsen mit adaptiver Frequenzabstimmung verbessert die Selektivität der Ätzrate
● Weltweiter Support verfügbar, um maximale Betriebszeit und Produktleistung sicherzustellen